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氮化硅压力烧结炉

简要描述:

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GENGXINSHIJIAN:2020-09-01

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氮化硅压力烧结炉

一、设备原理

  气压烧结是指首先在低压状态下进行烧结工艺,然后在常压下烧结材料达到疲劳状态,最后是在高气压下烧结(结果是进一步的增加材料疲劳状态并迅速的消除材料中的应力), 在高温高气压烧结工艺后,材料的各方面机械性能(硬度,强度,韧性等)都优于普通的烧结工艺。

二、设备用途

  本产品为周期作业式,适用于在高气压保护气氛条件下对陶瓷(如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等)及金属材料(如硬质合金)等进行高温高压烧结处理,有利于增加材料的烧结密度,提高材料的机械性能。

三、设备主要特点

    1、设备按3类压力容器标准要求设计及制造。

    2、炉门锁紧为螺栓或齿啮快卸法兰,操作方便安全可靠。

    3、炉内保温材料为碳沉积复合硬毡,发热元件为进口石墨。

    4、测温元件采用超高温保护管,配合钨铼热电偶,热偶丝使用寿命长达6个月。

    5、控制系统为触摸屏,安全联锁保护及报警功能齐全。

    6、高压阀门及管路等均选用品牌或同等进口产品,安全可靠。

四、技术参数

 型号

PVSgr-20/25-2000 (G2) 

设计温度(℃) 

 2000

温度均匀(℃) 

±5 

真空度范围 

10Pa 

充气体种类 

氮气/氩气 

气体压力(MPa)(选配) 

6or10 

冷却系统(选配) 

HCA-10 

炉膛尺寸(宽X高X长)(mm) 

Φ200×250 

装卸料方式 

立式上取料 

加热方式 

石墨加热

 

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