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2000℃研究用真空碳管炉

简要描述:

研究用真空烧结炉用石墨,钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

更新时间:2015-08-07

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2000℃研究用真空碳管炉

一、特点:
适用于无机材料的成形烧结,原料反应烧结的制备。同时也适用于金属材料的粉未冶金烧结,还适用于表面喷涂复合材料的高温烧结处理。此真空炉为高校,科研机构专用真空炉,根据原材料的不同,可以选用不同的加热体,可以选择石墨,钼屏,钨屏,金属钽等。

二、型号规格: 

产品型号

加热元件材质

设备形式

取料方式

有效工作区
(mm)

zui高加热
温度(℃)

常用工作
温度(℃)

加热功率
(KW)

冷态
极限真空度(Pa)

VVSgr-15-2000

石墨

立式

上取料

Φ100×100

2000

1800

15

6。7×10-3

VVSgr-40-2000

石墨

立式

上取料

Φ160×160

2000

1800

40

6.7×10-3

VVSgr-100-2000

石墨

立式

下取料

Φ300×400

2000

1800

100

6.7×10-3

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